第16卷第5期 Vol.16 No.5 粉末冶金材料科学与工程 2011年10月 Materials Science and Engineering of Powder Metallurgy Oct. 2011
电泳沉积法制备Fe2O3膜及其烧结致密化
(中南大学 粉末冶金国家重点实验室,长沙 410083)
常 通,李志友,马 莉,周科朝
摘 要:采用电泳沉积技术在Ni基体上制备Fe2O3膜,研究pH值对Fe2O3悬浮液稳定性的影响;沉积时间对电泳沉积速率,沉积层厚度及致密度的影响;高温处理对Fe2O3膜的致密度及膜与基体之间结合性能的影响。利用扫描电镜(SEM)、纳米粒度及zeta电位分析仪对电泳沉积进行表征。实验结果表明:当pH值为3时,悬浮液的zeta电位高达67 mV以上,此时悬浮液分散均匀。当电场强度为30 V/cm,沉积时间为120 s时,可以制备出均匀、无裂纹、相对密度为56%的Fe2O3膜。经1 000 ℃与1 100 ℃热处理4 h后,Fe2O3膜的致密度有所提高,与基体之间的结合性能改善。
关键词:电泳沉积;Fe2O3膜;zeta电位;烧结
中图分类号:TF111.34 文献标识码:A 文章编号:1673-0224(2011)5-760-08
Preparation of Fe2O3 films by electrophoretic deposition and
its sintering densification
CHANG Tong, LI Zhi-you, MA Li, ZHOU Ke-chao
(State Key Laboratory of Powder Metallurgy, Central South University, Changsha 410083, China)
Abstract: Ferric oxide (Fe2O3) films were prepared on the Ni substrate by electrophoretic deposition (EPD). The effects of pH value on the stability of Fe2O3 suspension, the deposition time on the deposition rate, sediment thickness and density, and the heat treatments on the density of Fe2O3 films and the bonding strength between the film and the substrate were studied. Scanning electron microscopy (SEM), nanoparticle size analyzer and zeta potential analyzer were used to characterize the films. The results show that, when the pH value is 3, the zeta potential of dispersed suspensions can reach up to 67 mV. A crack-free Fe2O3 film with relative density of 56% can be obtained when the electric field strength is 30 V/cm and the deposition time is 120 s. The relative density of Fe2O3 film and the bonding strength between substrate and films increase after heat treatment at 1000 ℃ and 1100 ℃ for 4 h. Key words: Electrophoretic deposition; Fe2O3 film; zeta potential; sintering
Fe2O3功能膜由于具有良好的耐温、耐光及优良的磁性等性能,并对紫外光具有强吸收和屏蔽效应[1],已被应用于许多领域,如半导体材料、灵敏材料、磁材料和催化剂等[2]。近年来,Fe2O3膜制备方法主要有金属有机物化学气相淀积法(MOCVD)[3],等离子增强化学气相沉积(PECVD)[4],溅射镀膜法(Sputtering)、
基金项目:国家重点基础研究发展规划(973计划)资助项目(2005CB623703);国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2008AA030501);国家
自然科学基金创新团队项目(50721003);湖南省博士研究生创新基金资助(CX2009B032);中南大学优秀博士论文扶持基金资助项目(2009ybfz02);中南大学贵重仪器开放共享基金资助(ZKJ2009024)
收稿日期:2010-11-09;修订日期:2011-01-11
通讯作者:李志友,教授,博士。电话:0731-88830464;E-mail:lizhiyou@csu.edu.cn
脉冲激光沉积法(PLD)[5],分子束外延(MBE)[6]和超声喷雾热分解等[7]。这些方法都有其局限性,其中溅射镀膜法一般只能溅射几种元素的物质,在复杂形状的基体上沉积较困难;PECVD与MOCVD也较难在复杂形状的基体上沉积均匀的氧化膜,且需要昂贵的设备;其他几种方法也需要昂贵的设备,所制得产品
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